第1篇：真空镀膜设备及镀膜加工
真空镀膜设备及镀膜加工
真空镀膜工艺简介：
真空镀膜学名物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)，表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。
九大类镀膜产品，包括多弧离子真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、中频磁控真空镀膜设备、蒸发真空镀膜设备、光学真空镀膜设备、卷绕式真空镀膜设备、DLC真空镀膜机+工模具镀膜系列，AZO透明导电膜镀膜生产线和连续式磁控溅射镀膜生产线等。
第2篇：PVD镀膜工艺
PVD镀膜工艺PVD镀膜工艺
1.装饰件材料（底材）
(1)金属。不锈钢、钢基合金、锌基合金等。(2)玻璃、陶瓷。
(3)塑料。abs、pvc、pc、sheet、尼龙、水晶等。
(4)柔性材料。涤纶膜、pc、纸张、布、泡沫塑料、钢带等。2.装饰膜种类
(1)金属基材装饰膜层：tin、zrn、tic、crnx、ticn、crcn、ti02、al等。(2)玻璃、陶瓷装饰膜层：tio2、cr2o3、mgf2、zns等。(3)塑料基材装饰膜层：ai、cu、ni、si02、ti02、ito、mgf2。(4)柔性材料装饰膜层：al、lto、ti02、zns等。3.部分金属基材装饰膜颜色
金属基材装饰膜的种类和色调很多。表1为部分金属基材装饰膜的种类及颜色。
表1 部分金属基材装饰膜的种类及颜色膜层种类 色 调 tinx 浅黄、金黄、棕黄、黑色 tic 浅灰色、深灰色 ticxny 赤金黄色、玫瑰金色、棕色、紫色 tin+ au 金色 zrn 金黄色 zrcxny 金色、银色 tio2 紫青蓝、绿、黄、橙红色 crnx 银白色 tixal-nx 金黄色、棕色、黑色 tixzral-nx 金黄色
3.装饰膜的镀制工艺 一．金属件装饰膜镀制工艺
比较成熟的镀膜技术有电弧离子镀、磁控溅射离子镀和复合离子镀。下面分别从各类镀膜技术中选取一种具有代表性的典型镀制工艺进行介绍。
1)用电弧离子镀的方法为黄铜电镀亮铬或镍手表壳镀制ticn膜。采用小弧源镀膜机和脉冲偏压电源；(1)工件清洗、上架、入炉
工件在入炉之前要经过超声波清洗、酸洗和漂洗三道工序。
首先是在超声波清洗槽中放入按使用要求配制的金属清洗剂，利用超声波进行脱脂、清洗。清洗之后，进行酸洗，它可以中和超声波清洗时残余的碱液，还能起到活化处理的作用。然后进行漂洗以彻底除去酸液，漂洗时必须采用去离子纯净水或蒸馏水。经过三洗后，即时进行烘干，温度一般控制在100℃左右，时间为1h左右。也可以风吹干后马上人炉。
(2)镀膜前的准备工作
①清洁真空镀膜室。用吸尘器将真空镀膜室清洁一遍。当经过多次镀膜时，真空镀膜室的内衬板还需作定期清洗，一般是半个月清洗一次。
②检查电弧蒸发源。工作前，要确保电弧蒸发源发源安装正确，绝缘良好，引弧针控制灵活,程合适，恰好能触及阴极表面。
③检查工件架的绝缘情况。工件架与地之间的绝缘必须须良好，负偏压电源与工件架的接触点点必须接触良好。
以上几项工作确保没有问题后，才可以关闭真空镀膜室的门，进行抽气和镀膜。
(3)抽真空
真空抽至6.6 x 10-3pa。开始是粗抽，从大气抽至5pa左右，用油扩散泵进行细抽。在粗抽时，可以烘烤加热至150℃。伴随镀膜室温度的升高，器壁放气会使真空度降低，然后又回升，等到温度回升到6.6 x 10-3pa时方可进行镀膜工作。
(4)轰击清洗 ①氩离子轰击清洗
真空度：通人高纯度氩气(99.999%)真空度保持在2～3pa。轰击电压：800～1000v。轰击时间：10min.此刻在真空镀膜室内发生辉光放电，放电产生的氩离子以较高的能量撞击工件表面，将工件表面吸附的气体、杂质和工件表面层原子溅射下来，露出材料的新鲜表面。
②钛轰击
真空度：通人高纯度氩气使真空度保持在2 x 10-2pa。脉冲偏压：400～500v，占空比20%。电弧电流：60～80a，轮换引燃电弧蒸发源，每个电弧蒸发源引燃1～2min。
(5)镀膜 ①镀钛
真空度：通人高纯度氩气，真空度保持在2 x 10-2pa。脉冲偏压：200～300v，占空比50 %。电弧电流：60～80a，引燃全部弧源，时间2～3min.②镀ticn 真空度：通人高纯度氮气使真空度保持在(3～8)x 10-1pa，然后再逐渐加大c2h2气体，随着c2h2气体量增大，色泽由金黄一赤金黄一玫瑰金一黑色变化。控制n2与c2h2两种气体的比例可以达到预定的色度。
电弧电流：50～70a。脉冲偏压：100～150v，占空比60 %～80 %。沉积温度：200℃左右。镀膜时间：10～20min，膜层厚度0.2～0.5μm。
(6)冷却
镀膜工序结束后，首先关闭电弧电源和偏压电源，然后关闭气源、停转架。工件在真空镀膜室内冷却至80～100℃时，向镀膜室内充大气，取出工件。
2)用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制zrn膜。采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。
(1)抽真空
5 x 10-3～6.6 x 10-13pa本底真空。加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。
2)轰击清洗
真空度：通人氩气真空度保持在2～3pa。轰击电压：800～1000v，脉冲占空比20%。轰击时间：10min。
(3)镀膜 ①沉积锆底层
真空度：通入氩气，真空度保持在s x lo-1pa。靶电压：400—550v，靶功率15 n 30w/crrr2。脉冲偏压：450～500v，占空比20 %。镀膜时间：5～10min。
②镀zrn膜
真空度：通入氮气，真空度保持在(3～5)x 10-1pa。靶电压：400～550v，靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压：150～200v，占空比80 %。镀膜时间：20～30min。由于磁控溅射技术中金属离化率低，不容易进行反应沉积，获得化合物膜层的工艺范围比较窄。可采用气体离子源将反应气体离化，扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源，柱状弧源还是辅助镀膜源。
(4)冷却
镀膜结束后，首先关闭磁控溅射靶电源、偏压电源，然后关闭气源、停转架。工伫件在真空镀膜室中冷却到100℃时，向镀膜室充大气，取出工件。
3)用复合涂层离子镀方法为黄铜电镀亮镍的手表壳镀制tin十au+ si02膜。采用电弧、磁控溅射、中频或射频溅射离子镀多功能镀膜机，在真空镀膜室壁上安装6个小平面弧源钛靶镀tin，中心安装柱状磁控溅射黄金靶镀金，壁上安装2个矩形平面磁控溅射si02靶或si靶镀si02。采用直流偏压电源。
(1)工件清洗、上架、入炉。方法同前。
(2)抽真空：本底真空最好达到6.6 x 10-3pa，烘烤加热温度为150℃左右。(3)轰击清洗。方法同前，包括氩轰击和钛轰击两种方法。(4)镀膜 ①沉积钛底层
真空度：通入高纯氩气，真空度保持在5 x 10-2pa。电弧电流：50～70a，引燃全部弧源，时间为2～3min。偏压：400～500v。
②沉积tin膜
真空度：通入高纯氮气，真空度保持在s x lo-1pa。偏压：100～200vo电弧电流：60～80a。沉积时间：10～20min，膜层厚度0.1～0.5μm。
③掺金镀
真空度：通入高纯氮气，真空度保持在5 x 10-2pa。偏压：100～150v。电弧电流：60a(真空镀膜室上、中、下各点燃1个源)。磁控溅射金靶电压：400—500v，电流3～5a;时间：1min。
④镀金
真空度：通入氩气，真空度保持在3 x 10-1pa。偏压：100～150v。溅射靶电压：400～550v。时间：5-10min。
⑤沉积si02 真空度：通入高纯氩气，真空度8 x 10-2pa或5x 10-1pa。中频（射频）电源功率：200～500w。时间：10～20min。
4)冷却：首先关闭中频（或射频）电源，然后关气源，停转架。工件在真空室内冷却到80-100℃时，向真空室充空气，取出工件。该工艺也叫掺金镀或ipg，最后一层si02是透明的，是保持金膜的，它可以延长金膜的磨损时间，根据客户的要求可有可无。
二．塑料件装饰膜的镀制工艺 采用pvd技术可在玻璃、陶瓷、塑料、水晶、木材、纸张等非金属工件上镀制金属膜及氮化膜、氧化膜。此处重点介绍塑料制品装饰膜的镀制技术，塑料制品镀金属膜的工艺也称塑料金属化。
为了填充塑料制品毛坯上的缺陷，提高表面光亮度和塑料与金属膜的结合力，在镀膜之前需要上底漆。为保护膜层还需上面漆。底漆、面漆由溶剂、树脂、助剂组成，按比例、顺序加入，混合搅拌。底漆、面漆一般采用溶剂型涂料，近几年出现了紫外线硬化涂料，它可以扩展塑料制品的应用领域。
塑料制品装饰膜的pvd技术有两种：真空蒸发镀和磁控溅射镀。真空蒸发镀设备结构简单、操作简便并且生产效率高，是目前广泛采用的塑料件的镀膜技术。
1)塑料制品装饰膜的真空蒸发镀工艺
一般塑料制品的真空蒸发镀膜机有卧式和立式双室（蚌形）两种。镀膜的工艺流程是：清洗脱脂——上架——涂底漆一固化——蒸发镀膜一涂面漆一固化——下架一染色——检验。
下面具体介绍镀膜的流程。(1)来料检验。
(2)干燥。待镀件来料时含较多水分，需进行干燥处理3～5h，温度为50～60℃。
3)上架。一般注塑时基本按真空镀膜要求生产，因此待镀件表面一般油污较少，经过一般的擦拭就可上架，但是来料油污多时需进行去污处理。方法是用市售洗洁剂逐件刷洗、漂洗、烘干。油污严重时还需用清洗剂在50～60℃，浸泡15～20min进行脱脂处理。
(4)除尘。这道工序是保证镀膜质量的关键之一，方法有两种：一种是用吸尘器对准上好架的待镀件仔细地除尘，能取得较理想的效果；另一种是用高压气“吹尘”的方法，这种方法必须装有油水分离器，但在实际工作中这种方法并不是很理想；还有一种方法是用静电除尘的方法，对质量要求较高时采用。
(5)涂底漆。涂底漆是保证镀膜质量的关键之二，涂底漆的目的是提高镀件表面的光洁度和光亮度；提高膜层结合力。
(6)烘干。涂漆流平后需进行干固处理，方法有红外线加热法、电热加热法及紫外线(uv)固化法等。固化温度为60～70℃，固化时间为1.5～2.5h。
(7)镀膜。镀膜是保证镀膜质量的关键。
镀膜前的准备工作：①钨丝的处理：一般采用φ0.75mm的3根绞合钨丝，用金属清洗剂将钨丝浸泡20～30min，60～90℃进行脱脂之后，彻底地漂洗烘干备用；②铝丝的处理：用纯度为99.9%～99.99%的铝丝或铝箔制成的蒸发舟进行碱处理，将铝丝浸泡在10%～15%的naoh溶液中2～3min，进行水汝洗3-5次，烘干2h备用。镀膜操作：待镀件上架，并装上钨丝，然后入炉，检查接触是否良好，转动正常，关真空室。抽真空：油扩散泵已预热1h;开机械泵，开粗抽阀、进行粗抽3—5min;开罗茨泵，开真空计测量真空达2～2.5pa；关粗抽阀，开前置阀，开高阀，进行细抽至(1～2)x 10-2pa即可蒸镀。真空度越高，膜层质量越好。
蒸镀：预熔的目的是除去铝丝、钨丝上的残余气体。此时，从真空计上可以看见真空度是下跌的，当真空由下跌转为上升，并回到本底真空时，可进行蒸发。蒸铝：作为装饰膜蒸铝时的真空控制在(1～2)x 10-2pa，蒸发采用快速蒸发可减少氧化概率，又不会使膜层的组织结构变粗；因而，可减少散射损失，提高反射率。
冷却充气：蒸铝以后，即可充气出炉。
(8)涂面漆。保护金属膜层，为着色工序做准备。
(9)着色。面漆彻底固化后可进行染色处理。根据客户要求，将不同颜色按按一定的比例进行配制，常用的配制24k金可用黄粉、金粉和红粉；配制黑色用黑粉、绿粉和蓝粉。为加强镀件的湿润性可加入1 %的冰乙酸，变色温度控制在60～70℃，不要超过80℃。
2)塑料件装饰膜的磁控溅射镀膜工艺：
塑料制品磁控溅射镀工艺流程及镀前、镀后处理与蒸发镀相同。(1)前处理。工件去油污，烘干去水。
(2)上底漆。烘干固化，固化温度为60—65℃。
(3)镀铝，也叫塑料表面金属化。采用柱状磁控溅射工艺镀铝。(4)上面漆。
(5)着色——冷染或热染。
第3篇：镀膜员工试题
镀膜员工试题库填空题: 1.关机时,关掉扩散泵加热，需要冷却 60分种以上 时间才可以关掉总电源
2.我们正常镀膜过程中镜片需要镀膜的一面应该向 下 放置。
3、写出+XP的意思 向正方向调X方向位置
4.新科隆机SID1100中生产IR CUT滤色片,每层开镀时, TiO2 材料的起始光控曲线方向向上, SiO2 材料的光控曲线方向向下。
5.新科隆机SID1100中的离子源,有 3 片栅极,从上到下依次为 TOP , MID , BOT;栅极间总共有 12 片陶瓷片绝缘.6.现在我们使用的镀膜机光学控制方式有 反射 式和 透射 式 两种,昭和机属于 透射 式新科隆机属于 反射式，光驰机属于反射 式。
7.相同蒸发条件下，饼料的SIO2，和颗粒状的SIO2，饼料的SiO2 所需的蒸发功率要高。
8.比较下列膜料正常蒸发功率，由大到小排列： MgF2 H4 SiO2 H4 > SiO2 > MgF2
9.选择下列光学原理： a、光的反射原理 b、光的折射原理 c、光的干涉原理 d、光的投射原理（1）看到水中筷子是弯曲的,利用光的 b（2）看到镜子里自已像，利用光的 a（3）光学薄膜利用光的 c
10.真空可以大致分为四段，分别为 初真空、低真空、高真空、超高真空
11.在真空的定义范围内，高真空度范围是 10-1-10-6 Pa
编辑版word 12.电子枪分为180°枪和270°枪，而目前韩一机器的电子枪 180 度，光驰机器的电子枪 180 度，昭和机器的电子枪270 度，新柯隆机器的电子枪 180 度，13.镜片放到镀膜机后，关门加热抽真空，等到 真空度 和 温度 到达，两者都满足设定要求后，机器才能开始镀膜。
14．目前我们镀膜机有两种厚度控制方法： 晶振控制 和 光控控制、15．昭和机器在没有放光控监控片下镀膜时，光控曲线 直线 形状
16、报警程序中PFC报警，其中PFC含义： POLYCOLD
17、当扩散泵指示灯闪烁时说明扩散泵还在加热 中，还不能打开高阀。
18、当扩散泵指示灯不闪烁时说明扩散泵已 加热完成，可以正常工作。
19、写出-YS的意思 减少Y方向电子枪光斑大小
20、目前我们镀膜机抽真空系统由 机械泵、罗茨泵、扩散泵 组成21、镀膜机中,膜层厚度的记录单位是: 埃（A）, 与米(m)的换算关系是: 10-10 , 速率的单位是: A/S.22、保持镀膜机开门时间尽可能的短，是为了防止真空室内部的护板吸附空气中的 水汽，使镀膜机的抽速变 慢，影响产品的品质。
23、薄膜微观结构是 柱状 结构，为了改善膜层结构，提高聚集密度，分别出现了三种成膜工艺 离子辅助、反应离子镀、溅射
编辑版word 24光学镀膜机真空排气系统中，机械泵排气原理： 机械压缩排除气体扩散泵排气原理： 靠蒸汽射流携带排除气体
25、POLYCOLD工作原理： 利用低温表面对 气体进行物理吸附排气
26、写出下列薄膜种类符号： （1）减反膜（2）、分束膜（3）内反射（4）偏振膜
27、写出下列真空度转换关系： 1Pa= 10-2 Mbar= 0.75E-2 Torr 1Torr= 133 Pa= 1.33 Mbar
28、镀单层MgF2,目前镀的是500nm，晶振厚度是1000A，而现在需要镀550nm，那么输入晶振厚度约为 1100 A
29、该层晶振厚度是800A，现已镀了150A，由于某种原因充气而需要加镀，那么加镀晶振厚度是 650 A
30、写出镀膜机各控制阀门的中文名称： MV 高阀 DP 扩散泵 RV 粗抽阀 SLV 细充气阀 FV 辅助阀
31、光学玻璃BK7折射率为1.517,则该玻璃表面单面反射率是 4.219%。
32、真空规管测量原理 通过气体放电方式产生电子，通过磁场使电子获得能量将气体分子电离
33、石英晶体控制原理 主要是利用了石英晶体的两个效应，即压电效应和质量负荷效应。
34、长波通膜系基本结构公式 A/(0.5HL0.5H)^p/G 短波通膜系基本结构公式 A/(0.5LH0.5L)^p/G
编辑版word 35、现配有 2把电子枪，面向机器 左边 为EB1, 右边 为EB2.36、正常新晶振的频率为 6 MHz左右.37、一般情况下,真空达到 7.0 Pa以上,高阀才会自动开启, 5E-3 Pa时,可以预熔膜料.38、开机时,扩散泵中的油温需加热到 250℃左右,扩散泵才能抽真空
39、氧气瓶中氧气的压力须大于 3 KG.40、若一个膜系40层,每个光控片控制2层膜,再备2片余量,总共需要放 22 片光控片.41、镀膜机开机前必须检查 冷却水 , 压缩空气 , 电 是否正常,是否稳定供应.42、晶振冷却水的进水温度要求是： 18 ~ 25 ℃
43、写出下列膜料分子式：二氧化硅 SiO2 氟化镁 MgF2 二氧化钛 TiO2 氧化铝 AL2O3
44、写出下列膜料分子式的名称： Ta2O5 五氧化二钽 Nb2O5 五氧化二钕 SiO 一氧化硅 MgO 氧化镁
45、韩一镀膜机有2个晶振头，外 边为1号，里 边为2号。
46、在点检机械泵、罗茨泵部件，必须查看 油位 是否满足标准要求
47、打开镀膜机时，必须给扩散泵预加热 60 分钟后才能用扩散泵抽真空
48、清冼电子枪、规管或离子源等部件，必须戴 手套 进行操作
编辑版word 49、利用光控控制镀膜机，一般在每炉摆放监控片数量必须多于程序中设定数量 2 片才可以关门。
50、在取放昭和机器光控片时，每个光控套筒里摆放 1 片干净、无伤痕监控片。
51、镀膜人员在机器罩子上取放镜片时，一定要戴 口罩。
52、晶振片和镀膜材料应放在 干燥器 中的目的是： 防止在空气中受潮。
53、有2块修正板的镀膜机，面向机器 左边 为MASK1, 右边 为MASK2。
54、写出下列中、英名称：晶振 crystal Coating 镀膜 真空 vacuum Optical 光学
55、开镀膜机之前，先需检查压缩空气压力在_5-8____公斤
56、开启稳压电源，稳压电压值应为___380___V左右。
57、开镀膜机之前，检查水压 3-5 公斤.58、光控控制的镀膜机蒸镀过程中光控曲线方向为：反射式控制的 高 折射率材料蒸镀方向向上；
59、机器大清洗后应进行 抽真空 和 加热 处理，才能正常生产。
60、我们现在的镀膜方式属于 热蒸发 方式。
二、选择题(不定项选择题)
编辑版word 1.在镀膜过程中,石英晶振可以显示以下哪些因素?(AD)A、蒸发速率 B、蒸发温度 C、真空度 D、膜层厚度
2．材料蒸发时，充氧的主要目的有哪些？（AB）A、补充材料失去的氧原子，使材料氧化更充分，降低膜层吸收 B、使每次镀膜时，真空室内的真空状态相接近C、使蒸发更稳定 D、使控制更精确。
3．镀膜机罩子或放扇形板的转动架须高速转动的目的是（ABCD）A、使同圈的膜层厚度分布均匀 B、使内外排膜层厚度分布均匀 C、使同圈温度分布均匀 D、使内外排温度分布均匀
4、现在我们生产Ir-cut平板滤色片，从反射看平板的颜色是（A）A、红色 B、绿色 C、蓝色 D、没有规律
5、油扩散泵上面加冷阱,其作用是(A D).A.防止扩散油分子回流到真空室 B.加快排氣速度.C.防止杂物掉入扩散泵.D、提高膜层附着力
6、为使蒸发材料分子从蒸发源到达基板时基本不和残余气体分子发生碰撞，故真空室内真空度要到达10-3Pa以下,以满足(B)条件 A、气体分子平均自由程小于蒸发距离.B、气体分子平均自由程远大于蒸发距离 C、气体分子平均自由程等于蒸发距离。D、气体分子平均自由程的平方大于蒸发距离。
7、对镀膜材料进行预熔的目的是（A C）A、去除材料内部的杂质 B、改变材料的表面形状 C、减少材料的放气 D、提高材料的温度
8、真空镀膜时真空度范围应在（C ）A、低真空 B、中真空 C、高真空 D、超高真空
编辑版word 9、电子枪“FIL”灯变红，故障原因是（C）A、电子枪高压线路故障 B、真空室底下门没有关好 C、电子枪灯丝有问题 D、电子枪电流回路故障。
10、提高膜层聚集密度工艺有（AD）A、提高离子源功率 B、降低温度 C、降低真空度 D、提高温度
11、黄色互补色是（B ）A、绿色 B、蓝色 C、红色 D、紫红色
12、增强膜层和镜片附着强度，以下那些因素有关（ABCD ）A、镜片表面清洁度 B、镜片表面温度 C、真空室内清洁度 D、膜层材料
13、镀650±10 IR-CUT滤色片，请问镀出在哪个波长范围内合格（B）A、640~660nm B、640~655nm C、630-660nm D、635-660nm
14、在可见光光谱中，绿色波长范围是（D ）A、600-570 B、500-450 C、630-600 D、570-500
15、SID1100的离子源中和器正常工作时,需要下列哪些气体? (AC)冷却时需要什么气体?(C)A、氧气(O2)B、氮气(N2)C、氩气(Ar)D、氦气(He)
16、镀膜镜片表面产生杂质，以下哪些是可能原因？（ABCD）A、材料本身不纯，有杂质 B、预熔时没熔透，镀膜时有飞溅 C、光斑打到边缘或外边，将其它物质镀到镜片上 D、坩埚盖板太脏，预熔时有膜料残渣掉进坩埚
17、镀膜机抽速慢，以下哪些可能会引起？（ABCD）A、各类泵油使用时间太长，已变质 B、POLYCOLD有问题 C、真空室的清洁不到位 D、机器有漏气
编辑版word 18、真空室内部清扫不干净，可能会导致以下哪些结果？（ABCD）A、机器抽速慢 B、零件表面灰尘 C、机器效率降低 D、分光特性不重复
19、下列哪些因素影响内外排的均匀性? (ABD)A、电子枪光斑的位置 B、电子枪光斑的形状、大小 C、真空度不稳定 D、修正板的形状和上升高度.20、正常情况下,真空室内部清洗干净后,机器的抽气速度将 (B)A、变慢 B、变快 C、不变 D、无法判断。
21、电子枪灯丝变形，可能有以下哪些结果 ？（ABCD）A、电子枪光斑变形，位置打偏 B、内外排分布不均匀 C、分光特性不良 D、产生杂质
23、在相同光斑大小和蒸发速率的情况下，AL2O3电子枪功率（A）SiO2电子枪功率 A、大于 B、小于 C、等于 D、不知道
24、下列属于镀膜机粗抽阀门符号是（C）A、LV B、SLV C、RV D、SRV
25、昭和机器利用光控监控镀膜，在新的一片光控片上镀（AD）材料光控曲线向下走动（未镀到极值点之前）A、TiO2 B、SiO2 C、MgF2 D、Ta2O5
26、1 Torr=(BC)A、1Pa B、133Pa C、1.33Mbar D、1Mbar
27、新科隆850离子源有（B）片栅极片 A、1 B、2 C、3 D、4
28、如果你镀出来一罩镜片有的排镜片合格，有的排不合格，与下列（ABC ）因素有关 A、光斑不在中心位置 B、修正板变形 C、电子枪档板松掉 D、蒸发速率不稳
编辑版word 29、在镀IR-CUT时，镀出镜片表面发黑，其原因是（D）A、镀膜材料受到污染 B、内外排分布不均匀 C、温度没有加 D、没有充氧
30、下列那个符号代表高阀（C ）A、FV B、MBP C、MV D、DP
31、下列那个符号代表光控（A ）A、OPM B、EB C、MBP D、PFC
32、关门抽真空，一般当真空度抽到（B ）时开始自动预熔膜料 A、1.5E-3Pa B、5.0E-3Pa C、2.0E-3Pa D、5.0E-5Pa
33、目前控制膜厚种类有（AC ）A、光学膜厚仪控制 B、电子枪控制 C、晶振膜厚仪控制 D、电脑控制
34、MgF2材料，我们可以采用是哪种蒸发方式： （A）A、电子枪蒸发 B、钼舟蒸发（阻蒸法）C、都不是 D、离子辅助蒸发
35、正常可升降修正板的镀膜机，若EB2正在镀膜,EB1,EB2上方的修正板,处于何种状态? (BC)A、EB1上方的修正板升起 B、EB2上方的修正板升起 C、EB1上方的修正板下降 D、EB2上方的修正板下降
34、韩一机从开始抽真空计时,到高阀开启,正常情况下需要多少分钟?(B)A、1分钟 B、5分钟 C、10分钟 D、30分钟
35、镀膜机在镀膜过程中,需要操作员工关注以下哪些情况?(ABCD)A、蒸发速率稳定情况 B、APC充氧情况 C、电子枪光斑位置及大小情况 D、光控曲线的走向及形状.编辑版word 36、为减少镜片人为污染，员工在取镜片时，应采取以下哪些保护措施？（BC）A、不开吸尘器 B、戴棉手套 C、戴口罩 D、戴手指套
37、手动预熔材料时，应注意下列哪些事项？ （ABCD）A、真空室内达到一定的真空度，开始加电流预熔材料 B、光斑不能打到坩埚边上，更不能打到坩埚外边 C、预熔时的电流一定要高于蒸发时的电流 D、不同材料不同的预熔电流
38、下列哪些部件在机器运行时需要冷却水？ (BCD)A、电子枪 B、扩散泵 C、坩埚盘 D、晶振头
39、有些镀膜夹具的摆放有上下之分,如棱镜、平板夹具，如果上下颠倒摆放,镜片会因于什么原因而报废：（D）A、破边 B、膜不洁 C、划伤 D、通光
40、镀膜机在自动充气（待开门）状态下，下列哪些情况是正确的？（ABC）A、LV开 B、MTR开 C、FV开 D、MV开。
41、在清洗和安装电子枪高压电极的引线时，为了防止扭坏电极，我们如何选择工具？ （B）A、鸭嘴钳 B、两只扳手 C、尖嘴钳 D、螺丝刀
42、对于AR膜而言，下列哪个波段反射率偏高时，镜片的反射光呈现红色？（D）A、400~420nm B、500~530nm C、580~620nm D、630~760nm
43、每台机器安装修正板的目的是 (C)A、调整内外排温度分布 B、调整机器内的真空度分布 C、调整内外排膜厚分布D、调整同圈厚度分布.编辑版word 44、如果加热板下方的温度探头移位,比正常时要低许多,结果镜片温度将会：（B）A、比正常时低 B、比正常时高 C、基本不变 D、划破镜片
45、在蒸镀膜料时，电子枪电流有，但加不高的原因是（AD ）A、装电子枪灯丝螺丝松了 B、电子枪灯丝寿命到期 C、灯丝断了 D、高压引线松动
46、在正常情况下，目前规定韩一机器使用新晶振最多只能镀（B）炉 A、一 B、二 C、三 D、不确定
47、镀膜机中EB代表的含义（C）A、电脑 B、扩散泵 C、电子枪 D、光斑
48、下列（B ）符号代表Y 方向的光斑大小 A、YP B、YS C、XP D、EB
49、下列（A）符号代表X 方向的光斑位置 A、XP B、XS C、YP D、EB
50、机器按规定（D）换护板。A、每周 B、每天 C、每炉 D、每班
51、在正常情况下，我们镀一炉650±10nm IR-CUT需要多长时间（A）A、6小时 B、2小时 C、4小时 D、8小时
52、在正常情况下，我们镀一炉普通增透需要多长时间（B）A、6小时 B、2小时 C、4小时 D、半小时
53、下列（B）符号代表X 方向的光斑大小 A、XP B、XS C、YP D、EB
54、下列（C ）符号代表Y 方向的光斑位置 A、XP B、XS C、YP D、EB
55、以下材料折射率最高的是（C ）A、SIO2 B、AL2O3 C、TIO2 D、MGF2
编辑版word 55、以下材料折射率最低的是（D）A、SIO2 B、AL2O3 C、TIO2 D、MGF2
56、晶振不好会导致以下哪些结果（AC）A、整罩分光特性超差 B、均匀性不好 C、表面不好 D、膜层牢固度不好
57、充氧不稳会导致以下哪些结果（A）A、整罩分光特性超差 B、均匀性不好 C、表面不好 D、膜层牢固度不好
58、光控曲线不好会导致以下哪些结果（A）A、整罩分光特性超差 B、均匀性不好 C、表面不好 D、膜层牢固度不好
59、温度不对会导致以下哪些结果（ABD）A、整罩分光特性超差 B、均匀性不好 C、表面不好 D、膜层牢固度不好
60、真空度不对会导致以下哪些结果（ABD）A、整罩分光特性超差 B、均匀性不好 C、表面不好 D、膜层牢固度不好
三、判断题
1、本部目前所使用的镀膜机有单层镀膜机、多层镀膜机和磁控溅射镀膜机（╳）
2、在选择膜系，按照自己以前镀过的膜系经验来选择膜系的（╳）
3、多层镀膜机每次可以蒸发二种以上的镀膜料（√）
4、每台多层镀膜机都配有二把电子枪（╳）
编辑版word 5、开机前先检气压要求为2公斤以下（╳）
6、开机前先检水压要求为10公斤以上（╳）
7、开启稳压电源，稳压指示应为220V（╳）
8、自动关机时不需要考虑真空度就可以直接关机（╳）
9、自动关机时只要把总电源关掉就可以了（╳）
10、关扩散泵后等待30分钟就可以关掉设备总电源（╳）
11、手动开机时，打开扩散泵（DP）加热开关前先需把MV阀打开，否则会影响扩散泵抽速（╳）
12、当扩散泵指示灯长亮时说明扩散泵还在加热完成，还不能正常工作（╳）
13、手动关机时，关闭扩散泵加热，等冷却50分钟后，需先关闭MV阀、再关罗茨泵和机械泵（╳）
14、镜片上架时需先将待镀镜片确认面别，并对照作业标准书确定膜系（√）
15、镜片上架后，确认镜片不会掉下来，关门按“STOP”机器自动运行，并选择好膜系（╳）
16、预熔时先把电子枪手/自动开关拔到REMOTE，把POCKET按钮拔到MAN，用上下键选择好要预熔的坩埚号按SET（转动到位）（╳）
17、按ACC ON、FIL ON，旋EMISSION一点（看到光班），旋控制柜面板上的POSITION/SCAN X与Y 位置把位置定到边缘（╳）
编辑版word 18、预熔H4时，电子枪电流只加到100 ~150 MA就可以预熔好材料（╳）
19、在镜片镀膜前先需核对所镀镜片与流转单是否相符（√）
20、设备点检每周一次，发现异常及时修理（╳）
21、机器按规定每月一次大洗，每天定期换护板（╳）
22、电子枪挡板更换周期为每四罩一次（╳）
23、按点检表内容和操作过程实际情况认真填写（操作一步、填写一步）（√）
24、记录者可以只写姓氏，不写工号（╳）
25、若点检发现有与要求不相符的情况出现时需及时向线长汇报，并认真记录在设备点检表内（√）
26、膜料、辅料领用时先填写领用单，由车间授权人员签字后向成品仓库领用（√）
27、在安装新晶振时，发现晶振寿命不好，把那片新晶振取下扔掉，重新换上新晶振（╳）
28、添加SIO2 膜料药勺可以拿来添加氟化镁膜料（╳）
29、在添加好膜料后，各种膜料瓶子放到机器旁边就可以了（╳）
30、镀膜员工可以保管不合格镜片（╳）
31、报废片与合格片需在同一个盒子内摆放，防止混淆（╳）
32、不合格镜片非专职人员可以随便拿取（╳ ）
编辑版word 33、韩一机器、昭和机器和新科隆机器中，显示真空度单位都是一样的（╳）
34、韩一机器可以利用光控进行膜厚控制（╳）
35、新科隆机器既可以利用光控控制也可以利用晶振控制（√）
36、昭和机器可以利用旧的晶振装到机器上进行镀膜控制（√）
37、昭和机器和新科隆机器，在镀TIO2时光控走动方向一样（╳）
38、昭和机器和新科隆机器电子枪都是270度（√）
39、韩一机器和新科隆机器的电子枪都是270度（╳）
40、在装韩一电子枪时，装好电子枪灯丝拧紧电子枪灯冒，但拧紧之后又要倒转1/4圈（√）
41、符号表示分光膜（╳）
42、目前本部镀膜机配制的膜厚控制仪有MDC360、IC-5和XTC-2（╳）
43、需连续预熔下个坩埚时，不需要把EMISSION（电流）旋小，只把下一个坩锅转到位就开始预熔（╳）
44、韩一机器在镀膜时，修正板全部是自动升降的（╳ ）
45、新科隆和昭和机器在镀膜时，修正板全部是自动升降的（√ ）
46、昭和镀膜机在镀IR-CUT时，真空度抽到5.0E-5Torr,开始自动预熔SIO2膜料（╳）
47、电子枪光斑X方位置偏移不在中心时，我们只需调节XP（√）
编辑版word 48、在相同光斑条件下，电子枪镀AL2O3电流跟MGF2电流大小差不多（╳）
49、镀膜机镀膜结束，不需要冷却可直接充气（╳）
50、每次更换晶振，除了我们换上新的晶振，还必须把晶振头也清冼干净（√）
三、简答题。
1．简述在镀膜过程中产生杂质的原因和对策？
答： 原因 对策 1.电子枪周围没有打扫干净用吸尘器、百洁布等清冼电子枪部件 2 坩锅没有清冼干净坩锅边缘用百洁布、酒精、纱布清冼干净 3 镀膜时电子枪光斑不在中间而打到边缘镀膜时必须把电子枪光斑打到中间而不能打偏 4 预熔材料不透彻把膜料充分地预熔透彻 5 预熔膜料电流加得太快加电流要缓慢，不要加的太快 6.电子枪档板不干净每罩要更换电子枪档板，以及电子枪档板要清冼干净 7.膜料污染避免膜料相互污染，以及保存方法 8.膜料本身不纯更换其它品种膜料
2．从操作角度来看，如何操作和保养才能让一台镀膜机的膜系稳定？
答：本题是员工自由发挥题目，没有明确答案，可以从以下三个方面考虑：1、如何按照作业指导书进行操作？2、如何维护设备日常保养？3、在镀膜时出现问题时，怎样去解决这些问题？
3．简述一下镀金属膜注意事项？
答：高的真空度、低基板温度、快蒸
编辑版word 4、在使用扩散泵应注意那些事项？
答1、冷却水不足，必须关闭扩散泵，否则轻则会造成返油，重则会使扩散泵过热造成扩散泵油烧焦。（机器若有自动保护装置，会自动停止扩散泵加热，并报警）2、扩散泵必须在低真空阀关闭，预抽阀开启，且系统真空高于真空室真空时才能打开，否则会造成真空室返油
5、光控控制的机器在镀TIO2，光控程序设定为START 90 PERK 1 STOP 10,而现在的光控曲线镀到80时突然报警，而必须退出程序重新加镀，请问如何设置程序进行加镀？
答：首先把START值从90改到80，然后重新加镀这一层，读出极值点数值，这时过振量应该这样计算 STOP值=（结束值-PERK 值）/（90-PERK值）*100
6、为什么要在高真空下镀膜？
答：1、真空状态下，膜料的熔点温度和蒸发温度要比在大气状态下低得多。对高熔点的氧化物膜料，在真空状态下其熔点要低得多。也就容易到蒸发温度而不需太高的能量。2、真空状态下，真空室中空气极少，膜料分子从蒸发源到达基片表面的路程中几乎不与残留在真空室中的气体分子碰撞，即分子自由程长。膜料容易沉积在基片上。3、由于真空室中气体分子少，因而氧分子、硫分子等化学活泼分子也少，高温状态的膜料分子就不会与之发生化学变化，从而保证膜层的膜料纯度。
7、晶振水堵塞后你怎么进行疏通?
答：把晶振冷却水管进口、出口从连接处断开，并把阀门关上，用压缩空气气枪从进口处吹入压缩空气，看出口处是否有异物流出？
编辑版word 8、镀膜机在自动镀膜时发生报警，而作为一名操作员工应如何处理报警？
答：首先按报警暂停按纽，查看报警内容，看自已是否知道？能否自已解决？如不能自已解决，查看作业指导书是否有，如没有向线长汇报，由线长再向技术人员询问如何解决，直到报警内容消除后才能按继续镀膜的键。
9、利用光控控制，上一罩镀出IR-CUT，测试曲线波长最长672nm、最短是666nm,而现在要镀650±10 IR-CUT滤色片，请问如何更改参数？答：=所有光控控制波长× 650/672 10．根据你的工作经验，从外表看，如何区分AL2O3和MGF2材料？
答：从形状来看：AL2O3颗料比较有梭角，MGF2膜料更碎；从颜色来看：AL2O3的颜色要暗一些，MGF2的颜色要亮一些。
11．作为一名交班者，你个人认为应该让接班者清楚哪些事情,同时作为一个接班者你个人认为应该从前一班中清楚哪些事情？
答：本题是员工发挥题，可以从以下几个方面答题 1、本班在上班时，生产那些产品，以及用的什么膜系来镀膜的？ 2、在本班期间出现了那些问题，用什么方法来解决的？以及要注意那些问题，这些都要交给下个班，也需要下个班来询问这些问题。3、上个班有那些试制需要下个班来完成，把被交待情况详细交给下过班。
12．简述一下镀膜机的开机及关机过程。
答：开机 冷却水和压缩空气检查 开稳压电源 开机器总电源 加热扩散泵 开电子枪电源 打开光控电源 开记录仪开关 开晶振开关 打开电脑关机：打扫机器 抽真空 关扩散泵 关电子枪电源 关光控电源 关记录仪开关 关晶振开关 关电脑 关总电源
编辑版word 13．在镀膜之前为什么要预熔材料？
答：在镀膜之前要把材料预熔透彻，主要是为了材料进行放气，消除材料中其它成份，保持镀膜不产生飞溅和保持真空度稳定。
14、在镀膜上伞镜片之前，我们应注意和确认那些项目？
答：1 票物相符 2 可否同罩 3是否是被镀膜面 4 膜料与程序里的坩埚号是否对应 5档板的平稳，有无松动 6 晶片的寿命及活性值。7电子枪寿命及有无异物 8 光控片是否够用
15、离子源使用结束后，机器会自动充入氩气对其冷却，冷却的目的是什么？
答：主要目的是快速冷却，由于氩气是不活泼性气体，很难与离子源部件发生氧化。
16、机器在开镀之前我们进行恒温的目的是什么？
答、使机器内所要镀制的镜片温度均匀。
17、机器镀膜结束，没有直接充入大气，而是先冷却，冷却的目的是什么？
答：其目的是保持镜片温度缓慢降低，防止镜片温度突然下降，导致镜片炸裂。
18、如何用简单的方法检验刚换好的氧气或氩气瓶各联结处是否漏气？
答：1、先打开瓶阀，在一个小塑料盒子盛入一些洗衣粉（或洗涤精）和水，搅拌成泡沫，用纱布把这些泡沫攒到各个联结处，看是否有小汽泡冒出，如有说明该联结处有漏气。2、先打开瓶阀，之后再关掉，看各表指针读数是否变化。
19、如果晶振速率突然不稳你该怎么处理？
编辑版word 答：如果是晶振控制的可以按照不稳时间和电流估计出实际所蒸镀的厚度，之后换一片晶振加镀；如果是光控控制的可以以光控为准换一片晶振继续蒸镀。
20、机器在正在自动镀膜过程中，我们作为操作人员应注意些什么？
答：光斑、速率、电流、温度、真空度、光控、充氧流量、转动、修正板、挡板、所镀层数、厚度。
21、作为一名镀膜员工，为了把工作做得更好，你想学习镀膜工艺技术中哪些方面的知识？
22、请列举一下，你认为镀膜员工容易出现的错误有哪些？有什么好的预防和补救措施？
23、你为什么工作，以后打算如何发展？
24、你目前的工作情况怎样？如何能把自己的工作做得更好？
25、如果你是一名现场主管，你会如何管理现场？
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第4篇：镀膜试验室工作总结
试验室在公司的正确领导和具体指导下，从试验室工作的实际出发，紧紧围绕公司的中心工作开展活动，较好的完成公司布置的各项任务。以下是2022年9月试验室工作总结：
一、精神文明建设方面：
1、能够加强中心试验室人员政治思想教育、品德教育和业务培训，加强对员工的指导、检查和监督。全面提高科室人员整体素质，建立并实行科室工作规则。
2、执行文明办公制度，控制使用空调，制止浪费，厉行节约，提倡勤俭办事；积极参加大扫除，保持室内环境整洁。
二、职能作用发挥方面：
1、对试验室各项工作职责、管理制度、管理办法进行了完善。
2、全面落实日常试验配液任务，加强监督指导，做好车间服务。
3、严格执行公司有关试验的技术标准、规范、规程，及时、认真地做好各项基础试验资料。
三、制度执行方面：
1、遇重大问题及时逐级向上级请示报告，做到不瞒报、不虚报、不漏报。
2、严格考勤制度，认真执行上班签到制，不迟到、不
早退，有事要请假。
3、严格执行工作督办制度，及时保质完成领导临时交办任务。
四、存在问题：
由于公司实验室在过去一直是个临时机构，在管理和制度上都存在很多问题，这需要在今后的工作当中摸索经验，更好地完善和发展。试验室工作本身是属于技术含量较高的一项工作，在今后的学习生活当中，我要努力地提高自身的业务水平和思想作风，更好地为公司的发展服务。
第5篇：11180131真空镀膜实验报告
郝乐彬 物理111近代物理实验 11180131 真空镀膜
预习报告
摘要：真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。本实验中用到的是蒸发镀膜法来进行真空镀膜。从而了解真空镀膜的原理和操作。
关键词：真空镀膜
原子转移
气象沉积技术
蒸发法
引
言：真空镀膜也叫物理气相沉积（PVD：physics vaporous deposit），它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。在薄膜沉积技术发展的最初阶段，由于蒸发法相对溅射法具有一些明显的优点，包括较高的沉积速度，相对较高的真空度以及由此导致的较高的薄膜质量等，因此蒸发法受到了相对较大程度的重视。但另一方面，溅射法也具有自己的一些优势，包括在沉积多元合金薄膜时化学成分容易控制，沉积层对衬底的附着力较好等。同时，现代技术对于合金薄膜材料的需求也促进了各种高速溅射方法以及高钝靶材，高钝气体制备技术的发展，这些都使得溅射法制备的薄膜质量得到了很大的改善。如今，由于气相中各组分能够充分的均匀混合，制备的材料组分均匀，易于掺杂，制备温度低，适合大尺寸薄膜的制备，并且能够在形状不规则的衬底上生长薄膜等优点，不仅上述两种物理气相沉积方法已经大量应用于各个技术领域之中，而且为了充分利用这两种方法各自的优点，还开发出了许多介于上述两种方法之间的新的薄膜沉积技术。
基本原理
真空镀膜是在真空室中进行的（一般气压低于1.3×10-2Pa），当需要蒸发的材料（金属或电介质）加热到一定温度时，材料中分子或原子的热振动能量可增大到足以克服表面的束缚能，于是大量分子或原子从液态或直接从固态（如SiO
2、ZnS）汽化。当蒸汽粒子遇到温度较低的工件表面时，就会在被镀工件表面沉积一层薄膜。
以下仅就源加热方式、真空度对膜层质量的影响及蒸发源位置对薄膜均匀性的影响等问题作简要说明。
(a)(b)为电阻型源加热器，它们由高熔点的金属做成线圈状（称为丝源）或舟状（称为舟源）。加热源上可承载被蒸发材料。由于挂在丝源上的被蒸发物质（如铝丝）可形成向各个方面发射的蒸汽流，因此丝源可用为点源，而舟源则可近似围内发射的面源。对于不同的被蒸材料，可选取由不同材料做成，形状各异的加热器。其
1 郝乐彬 物理111近代物理实验 11180131 选取原则为：
a.加热器所用材料有良好的热稳定性，其化学性质不活泼，在达到蒸发温度时，加热器材料本身的蒸汽压要足够低。
b.加热器材料的熔点要高于被蒸发物的蒸发温度，加热器要有足够大的热容量。c.要求线圈装加热器所用材料热能与蒸发物有良好的浸润，有较大的表面张力。d.被蒸发物与加热器材料的互溶性必须很低，不产生合金。
e.对于不易制成丝状，或被蒸发物与丝状加热器的表面张力较小时，可采用舟状加热器。日前常用钨丝加热器蒸发铝，用钼舟加热器蒸发银、金、硫化锌、氟化镁等材料，与电阻器配合的关键部件是低压大电流变压器，对不同的蒸发材料及加热器可将电流分配塞置于相应位置，以保证获得合适的功率。电阻源加热器具有简便、设备成本低等优点，但由于加热器与蒸发物在电阻加热器上的装载量不能太多，因此所蒸膜厚也将受到限制。图1(c)是一种电子束蒸发源的示意图。它是利用高电压加速并聚焦的电子束经磁偏转，在真空中直接打到蒸发源表面，使蒸发物表面的局部温度升高并溶化来实现真空沉积的。电子束可使熔点高达3000℃以上的材料熔化。电子束蒸发时，蒸发物中心局部熔融并为汽化时，其边缘部分仍处于固体状态，这样就可避免蒸发物与坩埚的反映，保证蒸发物不受沾污。（2）物质的蒸发速度
在一定的温度下，每种液体或固体物质都有特定的平衡蒸气压。只有当环境中被蒸发物 质的分压降低到它们的平衡蒸气压以下时，才可能有物质的净蒸发。单位源物质表面上物质 的净蒸发速率为（详细推导见参考文献2，P4）：
其中，Γ为单位物质表面的质量蒸发速度，M为分子或原子的相对原子质量，T 是气体的热力学温度，R 为气体常数，NA 为阿伏伽德罗（Avogadro）常数。由于物质的平衡蒸气压随着温度的上升增加很快，因而对物质蒸发速度影响最大的因素是蒸发源的温度。（3）真空度对膜层质量的影响。
真空镀膜对真空度的要求是出于以下两方面的考虑：
a.真空度足够高，可以使蒸汽分子以射线状从蒸发源向基体发射。这样可以使蒸发材料的利用率及沉积速率大大提高。在正常工作时要求真空室内气体分子的平均自由程比蒸发源到被镀基体的距离大得多。真空室内残余气体分子的平均自由程可以由下式表示：
其中，n 为单位体积内气本分子数，σ为气体分子的有效直径。此式表明，气体分子平均自 由程决定于单位体积内的分子数n，由于n 正比于气体压强P，因此λ与P 成反比，或者说，气体分子自由程与真空度成正比。一般要求气体分子平均自由程是源到基体距离（h）的2～3倍，因此对于h =20cm的真空镀膜机，要求其真空度为10帕至10帕。b.如果没有足够高度的真空度，真空室内的残余气体分子可能是很可观的。由空气动力学可
23郝乐彬 物理111近代物理实验 11180131 知，当气压为1.3×10帕时,每平方厘米基体表面，每秒钟内，可有5×10个气体分子与其发生碰撞。由于残余气体中包含各种气体成份，尤其是氧等气体分子容易被基体吸附后改变膜层的结构和成份，因此在真空镀膜时必须保持一足够高的真空度。（4）蒸发源位置与薄膜的均匀性。
由理论分析可知，当一个点源放在一个半径为r 的球心位置时，则在整个球面上得到的沉积层厚度是均匀的。实际的蒸发源总有一定线度，不能看成理想的点源，因此球面上的淀积量不可能很均匀，线度越大，均匀性越差。此外，基体也不可能恰好是半径为r的球面，它们常常是一些平面或有特定曲率半径的曲面，这也影响了镀层的均匀性。为了使镀层有良好的均匀性，目前常用的方法是使载工件的平面绕图2 所示的oo'轴转动，把一小面源置于距中心为R 的位置上，这样可使均匀性得到改善。更精良的设计是将工件盘做成既能自转（绕o'轴），又能公转（绕o 轴）的行星盘结构（如图3 所示），这种结构对膜层的均匀性是更为有利的。
实验部分
动手操作前认真学习讲义及有关资料，熟悉镀膜机和有关仪器的结构及功能、操作程序与注意事项。
（1）准备基底：清洗载玻片，在洁净的载玻片上均匀涂上硅油。（2）镀膜室的清理与准备。先向钟罩内充气一段时间，然后升钟罩，装好基片、电极钨丝和铝丝，清理镀膜室（壁上的沉积物可以用丙酮清洗），降下钟罩。
（3）把需要蒸镀的材料银放入真空室中的钼舟中，并在真空室顶部装好基底，关好真空室。（4）开机械泵，开启复合真空计中的电偶计（注意电离计保持关闭状态）（5）间隔的拉动三通阀，使得储气桶和真空室的真空度底于6.7pa。
（6）打开冷却水，加热油扩散泵越为40分钟。（在保证
4、5随即正常进行的前提下，4、6可以同时进行，以节省时间。否则必须在5进行后才能进行6。（7）将三通阀推至死点，开启高真空碟阀。
3 315郝乐彬 物理111近代物理实验 11180131（8）当热偶计示数小于0。1pa时，开启电离计，转向高真空测量。
（9）注意电离计示数的变化，同时电离计转换测量档。直到达到所需的压强为止（约为102103pa）。
（10）开启版面上的“镀膜”逐渐转动“灯丝—镀膜调节”加大电流，给钼舟电，钼舟渐渐发红，舟中的蒸发物开始液化，逐渐蒸发完。过几秒时间，关掉电流和镀膜开关。（11）关掉电离计，关碟阀。
（12）停止油扩散泵加热，关复合真空计。
（13）冷却数分钟之后，对真空室冲气，打开真空室，取出被镀样品。（14）关好真空室，对容器抽低真空3—5分钟。（15）在显微镜下观察液面薄膜。
（16）油扩散泵冷却至室温后，停止机械泵，切断水源和电源，全部工作完成。
实验结果处理（实验数据
实验中最后得到的镀膜电流为40A，由于镀膜过程中包含金属锡丝熔化过程，且肉眼无法直接观察真空室内金属锡丝,只能定性的观察红光或者从侧面已成膜的地方观察,因而40A可能并不是真正的镀膜电流，是靠主观定性观察所得。
下面为实验镀膜情况
5 实验结论
实验中完成真空的获得后，开始镀膜，慢慢调大镀膜电流，发现真空室慢慢出现红光，观察到红光被部分遮挡或者从侧面看出现类似镜子侧面的紫光时，镀膜完成。第一次实验失败，发现玻片上只有很薄的镀膜痕迹，经过分析，原因在控制镀膜电流时操之过急，导致金属锡丝没有全部熔化，熔断后掉落在真空室中。第两次实验大致成功，分析镀膜成果（见实验数据中的图片），发现镀膜比较清晰，厚度可以，只是出现不均匀现象。经分析我认为，原因是在放置金属锡丝的使用，钨丝一侧较多，一侧比较少，加之金属锡丝是线性的，导致镀膜出现不均匀的现象。
4 郝乐彬 物理111近代物理实验 11180131 实验所得镀膜电流为40A，由于镀膜过程中包含金属锡丝熔化过程，且肉眼无法直接观察真空室内金属锡丝,只能定性的观察因而40A可能并不是真正的镀膜电流，是靠主观定性观察所得。
本实验在上个学期的实验基础上，加上了镀膜部分，总体思想是学习一种方法，见识一项工艺，领会一门技术。通过实验，我们大致了解了实验中的各项操作，明白了各步实验操作的目的，对于实验理论的理解也更加深刻了。
第6篇：中山瑞兆真空镀膜厂
中山瑞兆真空镀膜厂
企业简介：
中山瑞兆真空镀膜厂位于广东省中山市小榄镇小榄工业基地内,是一间生产、加工各种塑料、树脂、玻璃钢、PE、木头材质的人体模特和工艺品真空镀膜的专业化工厂。该公司拥有大型的生产车间、先进技术、专业团队，从设计、开发、生产、品质品检、物流配送到售后都由专业人员跟进。
中山瑞兆真空镀膜厂的诚信、实力和产品质量赢得了众多国内外客户的信赖和好评。为了超越顾客的期望，工厂不断创新、开发新的产品，欢迎新老客户参观、指导和业务洽谈。
优势特色：
1、玻璃钢、PE电镀技术成熟
玻璃钢只需毛胚即可电镀，不需再喷底油；
PE产品表面光滑不划手，亮度饱满并不会一整片掉漆皮
2、电镀产品体积大
可镀最高尺寸为2.8m*，最大直径1.2m的产品
公司具备先进设备和优秀团队，电镀体积大产品的经验丰富，曾镀高达2m的佛像和高1.8m的罗马柱。产品效果光滑不划手、亮度饱满，得到了客户的一致认同。
3、可镀多种材质的产品
经研究人员对不同材质的研究，公司开发了多种材质的电镀方法，如木头、玻璃钢、PE、ABS、PC、树脂等材质。
4、产品可镀各种颜色
公司调色技术成熟，可以镀出各种颜色。
经营原则：
“品质至上，诚信为本”
网站:
地址
中国 广东 中山 中山市 小榄镇小榄工业基地北部工业园三期90号
镀膜工作总结
镀膜生产主管岗位职责（共13篇）
汽车零部件蒸着镀膜员岗位职责（共4篇）
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岗位职责模块
